YS/T 14-2015《异质外延层和硅多晶层厚度的测量方法》基本信息

标准号：

YS/T 14-2015

中文名称：

《异质外延层和硅多晶层厚度的测量方法》

发布日期：

2015-04-30

实施日期：

2015-10-01

发布部门：

工业和信息化部

YS/T 14-2015《异质外延层和硅多晶层厚度的测量方法》介绍

工业和信息化部于2015年4月30日发布了《异质外延层和硅多晶层厚度的测量方法》（YS/T 14-2015）标准，该标准自2015年10月1日起正式实施，为硅基材料的生产和检测提供了重要的参考和指导。

一、测量原理

YS/T 14-2015标准采用光谱反射率法进行异质外延层和硅多晶层厚度的测量。通过测量样品表面的光谱反射率，结合材料的光学性质和厚度与反射率之间的关系，可以计算出样品的厚度。

二、测量仪器

YS/T 14-2015标准对测量仪器提出了具体要求。测量仪器应包括光源、单色仪、探测器、样品台等组成部分，能够对样品的光谱反射率进行精确测量。同时，测量仪器的稳定性、重复性和准确性也应满足标准要求。

三、测量步骤

YS/T 14-2015标准对测量步骤进行了详细的规定。需要对样品表面进行清洁和平整处理，以保证测量结果的准确性。然后，将样品放置在样品台上，调整光源和探测器的位置，使其与样品表面垂直。接下来，通过单色仪对样品的光谱反射率进行测量，记录不同波长下的反射率值。根据测量结果和材料的光学性质，利用数学模型计算出样品的厚度。

四、数据处理

YS/T 14-2015标准对数据处理提出了具体要求。需要对测量数据进行预处理，包括滤波、去噪等操作，以提高数据的准确性。然后，根据材料的光学性质和厚度与反射率之间的关系，利用数学模型对数据进行拟合，计算出样品的厚度。对计算结果进行分析和评估，以确保测量结果的可靠性。

检测流程步骤

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