标准简介：本标准规定了电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）测定硅片表面金属元素含量的方法。本标准适用于硅单晶抛光片和硅外延片表面痕量金属钠、镁、铝、钾、钙、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌元素含量的测定，测定范围为108 cm-2～1013cm-2。本标准同时也适用于硅退火片、硅扩散片等无图形硅片表面痕量金属元素含量的测定。

标准号：GB/T 39145-2020

标准名称：硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

英文名称：Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry

标准类型：国家标准

标准性质：推荐性

标准状态：现行

发布日期：2020-10-11

实施日期：2021-09-01

中国标准分类号（CCS）：冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法

国际标准分类号（ICS）：冶金>>77.040金属材料试验

起草单位：南京国盛电子有限公司、有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、上海合晶硅材料有限公司、有色金属技术经济研究院、无锡华瑛微电子技术有限公司、龙腾半导体有限公司、厦门科鑫电子有限公司

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全

发布单位：国家市场监督管理总局.