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检测执行标准信息一览：
标准简介：本标准规定了硅外延片的产品分类、技术要求、试验方法和检验规则及标志、包装运输、贮存等。本标准适用于在Ｎ 型硅抛光片衬底上生长的ｎ型外延层（Ｎ／Ｎ＋ ）和在ｐ型硅抛光片衬底上生长的Ｐ型外延层（Ｐ／Ｐ＋ ）的同质硅外延片。产品主要用于制作硅半导体器件。其他类型的硅外延片可参照使用。
标准号：GB/T 14139-2009
标准名称：硅外延片
英文名称：Silicon epitaxial wafers
标准类型：国家标准
标准性质：推荐性
标准状态：作废
发布日期：2009-10-30
实施日期：2010-06-01
中国标准分类号（CCS）：冶金>>半金属与半导体材料>>H80半金属与半导体材料综合
国际标准分类号（ICS）：电气工程>>29.045半导体材料
替代以下标准：替代GB/T 14139-1993;被GB/T 14139-2019代替
起草单位：宁波立立电子股份有限公司
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
发布单位：国家质量监督检验检疫.
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