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检测执行标准信息一览：
标准简介：本标准规定了用Ｘ射线技术测量硅片参考面结晶学取向的方法。本标准适用于硅片参考面结晶学取向与参考面规定取向之间角度偏差的测量。硅片直径为50～125mm，参考面长度为10～50mm。本标准不适用于硅片规定取向在与参考面和硅片表面相垂直的平面内的投影与硅片表面法线之间夹角不小于3°的硅片的测量。
标准号：GB/T 13388-1992
标准名称：硅片参考面结晶学取向X射线测量方法
英文名称：Method for measuring crystallographic orientation of flats on single crystal silicon slices and wafers by X-ray techniques
标准类型：国家标准
标准性质：推荐性
标准状态：作废
发布日期：1992-02-19
实施日期：1992-10-01
中国标准分类号（CCS）：冶金>>金属理化性能试验方法>>H21金属物理性能试验方法
国际标准分类号（ICS）：29.040.30
替代以下标准：被GB/T 13388-2009代替
起草单位：北京有色金属研究总院
归口单位：全国半导体材料和设备标准化技术委员会
发布单位：国家技术监督局
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