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检测执行标准信息一览：
标准简介：本标准规定了应用扫描表面检查系统对抛光片、外延片等镜面晶片表面的局部光散射体进行测试，对局部光散射体与延伸光散射体、散射光与反射光进行区分、识别和测试的方法。
标准号：GB/T 19921-2018
标准名称：硅抛光片表面颗粒测试方法
英文名称：Test method for particles on polished silicon wafer surfaces
标准类型：国家标准
标准性质：推荐性
标准状态：现行
发布日期：2018-12-28
实施日期：2019-07-01
中国标准分类号（CCS）：冶金>>金属理化性能试验方法>>H21金属物理性能试验方法
国际标准分类号（ICS）：冶金>>77.040金属材料试验
替代以下标准：替代GB/T 19921-2005
起草单位：有研半导体材料有限公司、上海合晶硅材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、南京国盛电子有限公司、有色金属技术经济研究院、天津市环欧半导体材料技术有限公司
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全
发布单位：国家市场监督管理总局.
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