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检测执行标准信息一览：
标准简介：本标准规定了应用扫描表面检查系统(SSIS)对硅抛光片表面颗粒进行测试、计数和报告的程序。本标准适用于硅抛光片，也可适用于硅外延片或其他镜面抛光片(如化合物抛光片)。本标准也适用于观测硅抛光片表面的划痕、桔皮、凹坑、波纹等缺陷，但这些缺陷的检测、分类依赖于设备的功能，并与检测时的初始设置有关。
标准号：GB/T 19921-2005
标准名称：硅抛光片表面颗粒测试方法
英文名称：Test method of particles on silicon wafer surfaces
标准类型：国家标准
标准性质：推荐性
标准状态：作废
发布日期：2005-09-19
实施日期：2006-04-01
中国标准分类号（CCS）：冶金>>金属化学分析方法>>H17半金属及半导体材料分析方法
国际标准分类号（ICS）：冶金>>金属材料试验>>77.040.01金属材料试验综合
替代以下标准：被GB/T 19921-2018代替
起草单位：北京有色金属研究总院
归口单位：全国有色金属标准化技术委员会
发布单位：国家质量监督检验检疫.
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